一、設備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設備主要技術(shù)參數：

1、型號： KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統配置：VRD-30直聯(lián)泵、ISO200口徑JTFB-1200分子泵、一臺高真空插板閥，兩臺氣動(dòng)擋板閥和旁路閥及管道組成。

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流1000A

6、腔室尺寸：￠400*410

7、電源功率：≤60KW

8、熔煉坩堝 設計有五個(gè)半球形工位窩。一個(gè)半球形￠50*30吸鑄功能的工位，四個(gè)￠70*30熔煉除氣工位。五工位均勻規則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機械手翻轉組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

13、爐體側部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀(guān)察窗方便看清內部熔化情況。

三、設備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、四工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

1、電弧熔煉真空室：真空室立式圓筒形設計，結構簡(jiǎn)介美觀(guān)，側部開(kāi)有KF快接接口，用于真空閥門(mén)及輔助測量原件的安裝，在真空室正前方有一小爐門(mén)，側部打開(kāi)，方便裝卸料。小爐門(mén)上有觀(guān)察窗，方便在冶煉時(shí)觀(guān)察爐內情況。上部是圓形密封雙層水冷爐蓋，留有電極桿升降安裝孔。

2、電弧槍及電弧槍升降裝置：電弧槍采用水冷設計，可耐高溫，同時(shí)頭部快捷安裝設計，便于更換電極鎢針棒。上部密封采用球形窩狀設計，電極圓周方向旋轉自然無(wú)卡頓。電極升降采用電動(dòng)升降，有電機減速機組成，運行平穩，同時(shí)操作按鈕在升降桿旋轉把手處安裝，操作便攜。

水冷銅坩堝：銅坩堝爐底采用雙側水冷設計，設計有五個(gè)工位。一個(gè)半球形帶吸鑄功能的工位，四個(gè)熔煉除氣工位。五工位均勻規則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

3、翻轉機械手：翻轉機械手也采用球形窩狀設計，方便旋轉翻料。

4、電控系統：電器元器件均采用西門(mén)子施耐德等，控制柜體上有操作模擬屏，，便于學(xué)習和操作。上面配有冶煉電流指示表，各部件的操作按鈕，故障指示燈等簡(jiǎn)潔直觀(guān)。

5、吸鑄裝置：在坩堝的前方區域留有一真空吸鑄工位，吸鑄銅模采用快捷式安裝，方便拆卸，在坩堝底部留有吸鑄真空接口，并配有真空閥門(mén)隔斷。吸鑄閥門(mén)與一吸鑄緩沖真空罐鏈接，在吸鑄之前先將緩沖罐抽成真空狀態(tài)，待需要吸鑄時(shí)打開(kāi)真空閥門(mén)，完成吸鑄動(dòng)作。模具采用兩瓣拼接組合模式方便，方便拆卸和取料。

6、真空系統及測量：采用TRP-36直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、三臺氣動(dòng)擋板閥和各種管路真空系統獨立安裝，采用氣動(dòng)模式，所有閥門(mén)采用快捷安裝方式，方便拆卸，真空系統獨立設計安裝在一可以移動(dòng)的安裝平臺上，方便對接安裝和供其它設備使用。真空測量采用復合真空計，測量數顯顯示?？蓴U展通訊模式。

7、電弧電源：采用電弧熔煉專(zhuān)用電弧電源，最大輸出電流高達1200A,滿(mǎn)足大容量長(cháng)時(shí)間葉琳的需求，具有故障報警指示，安全可靠。

四、設備工程條件：

1、設備總功率：100Kw

2、總進(jìn)線(xiàn)要求：三相，380V，50Hz

3、設備總重量：≤800Kg

4、設備占地面積：1800*850*1700mm（長(cháng)*寬*高）

五、售后服務(wù)承諾

★出廠(chǎng)安裝調試實(shí)現安裝服務(wù)；安裝好后客戶(hù)可直接使用。

★設備出廠(chǎng)安裝調試驗收后質(zhì)量保修期為12個(gè)月份，終身維修，一年后收取適當費用。

★服務(wù)期內如用戶(hù)有報修通知，3 小時(shí)內電話(huà)指導，如電話(huà)指導用戶(hù)不能自選排除即在2個(gè)工作日內安排人員上門(mén)服務(wù)。